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                先进材料表征方法

                 

                X射线能谱分析(EDS) 聚焦离子束╳分析(FIB) 俄更擁有智慧之骨歇电子能谱分析(AES) X射线光电子 這里能谱分析(XPS)
                动态二次离子质〓谱分析(D-SIMS) 飞行时间二次离子→质谱分析(TOF-SIMS)

                 

                表面元素分♀析

                 

                1. X射线光电◢子能谱技术

                X射线光电子能谱技术(X-ray photoelectron spectroscopy,简称XPS)是一种表面分析方法, 使用X射线去辐射样品,使原子或分子的内层电子主人或价电子受激发射出来,被光↓子激发出来的电子称为光电子,可以测道仙量光电子的能量和数量∩,从而获得待测▓物组成。XPS主要应用是测定电子的结合能来鉴定样品表面〓的化学性质及组成的分析,其特点在光电子来自表面10nm以内,仅带出表面的化Ψ 学信息,具有分析区域小、分析深度浅和不破坏样品另外十一名妖仙的特点,广泛应用于金属、无机材料、催化剂、聚合物、涂层材料矿石等各种↙材料的研究,以及腐蚀、摩擦、润滑、粘接、催化、包覆、氧化等过程的研究。

                 

                2. X射线光电子能萬劍決谱分析(XPS)可为客户∑解决的产品质量问题

                (1)当产品表面存在微小的异物,而常规的成分测试方〒法无法准确对异物进√行定性定量分析,可选择XPS进行分析,XPS能分析≥10μm直径的异㊣ 物成分以及元素价态,从而确@ 定异物的化学态】,对失效机理∏研究提供准确的数据。

                (2)当产品表面膜层太●薄,无法使用常规测试进行厚度测量,可选择XPS进行分析,利用XPS的深度溅射功能测试≥20nm膜厚厚度。

                (3)当产品表面有多层薄膜斷連惡狠狠咆哮起來,需测量各层膜厚及成分,利用D-SIMS能准确测定各层薄膜厚度及组↘成成分。

                (4)当产品的表面存在同种元素多种价态的物质,常规测试方法不能区分元素各种收藏一下艾零度拜謝了价态所含◤的比例,可考虑XPS价态分析,分析出元素各种价▲态所含的比例。

                 

                3. X射线光电子能谱分析(XPS)注意事项

                (1)样品▆最大规格尺寸为1×1×0.5cm,当样品■尺寸过大需切割取样。

                (2)取样的时候避免手和取样工具接触到需要测试↓的位置,取下样品后使用真空包装或其他能隔离外界环境的包装, 避免外々来污染影响分析结果。

                (3)XPS测试的样品可喷№薄金(不大于1nm),可以测试弱导电性的样品,但ξ 绝缘的样品不能测试。

                (4)XPS元素卐分析范围Li-U,只能测试→无机物质,不能测试有机物物质,检出限0.1%。

                 

                4.应用实例

                样品信息:客户端发◇现PCB板上金片ζ表面被污染,对污染区域进行分析,确定污染物类型。

                测试结果谱〖图:

                 

                X射线光电子能谱分析 X射线光电子能谱分析

                 

                结论:表面直接分析发现腐蚀性元素S,往心可以說是神靈之體部溅射10nm深度后未发◥现S,说▅明表面污染物为含硫类物质。

                 

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